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2012-2013华虹集团职工标兵——李铭

河内快三计划       李铭,男,1971年出生,复旦大学物理学学士,上海集成电路研发中心技术研发部和营运工程部部长。曾任职于上海贝岭、新加坡特许等集成电路制造企业, 2002年加入上海集成电路研发中心,曾于2001年作为第一批成员赴比利时IMEC一年从事铜互连相关的工艺和集成研发工作。

河内快三计划       2003年至2008年期间,作为工艺开发核心成员参与了华虹NEC 0.25um e-Flash与0.18um EEPROM的工艺开发工作,负责工艺集成技术研发和优化,以及成品率提升工程。在此期间共申请相关专利四项。作为先进嵌入式非易失性存储器制造技术项目组成员,先后获得2012年度上海市科技进步奖一等奖和2013年度国家科技科技进步二等奖。

河内快三计划       作为部门负责人,在应用材料公司捐助的8"铜互连设备基础上,借用HHNEC净化间,建起了研发中心铜互连试验线并实现常态运行。在该试验线上,完成了0.13~0.09um铜互连(国家十一五科技重大专项宏力项目子课题,已通过最终验收)和3.3um厚铜电感(国家十一五科技重大专项华虹NEC项目子课题部分,已提交验收申请)的工艺开发,开展了MEMS红外传感器、集成式无源器件(IPD)、片上天线和生物芯片等新型互连器件结构的研发,并为国产电镀液材料(新阳)和研磨液材料(安集)提供了配方筛选和上机评测服务,协助国产设备的开发进行了配套工艺研发和流片验证。

河内快三计划       目前主要负责研发中心12"工艺引导线(一期800m2,共3000+1200m2)的建设,和40nm、28nm及20-14nm先进工艺开发研究。其中12"工艺引导线已基本完成先进铜互连工艺平台建设(包括刻蚀、PVD、ECP、CVD和CMP等设备),可满足40nm及以下铜/超低k介质大马士革工艺和TSV工艺的开发需要;完成12"中微介质刻蚀、盛美清洗等国产设备,和新阳铜电镀液及添加剂、安集铜和阻挡层研磨液等国产材料的评价;已建立自动搬送系统AMHS(新松)和设备报警系统(宝信),并将按集成电路生产线的要求建立生产管理系统(MES),对物料、机台和工艺进行全程在线控制,并通过严格的物流操作和粘污控制规程,实现与生产线的无缝流片对接。先进工艺开发方面,与Synopsys建立了先进工艺联合实验室,完成40nm所有关键层次的OPC模型和菜单,建立了28nm初版光刻工艺和OPC模型,并进行了16/14nm FinFET工艺的先期开发,通过SADP双重图形化工艺初步实现了FinFET结构。